(公財)立石科学技術振興財団 2018年度の研究助成(A)(B)(C)公募のご案内
2017年09月06日掲載
締切間近
情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 番号 | 2017083104 |
| 団体名 | 公益財団法人 立石科学技術振興財団 |
| 種別 | 研究助成 |
| 分類 | 理系 |
| 応募方法 | 研究科事務経由 |
| 募集期間 | ～2017年10月31日 |
| URL | http://www.tateisi-f.org/ |
| 備考 | 詳細はHPをご確認ください。
●助成対象 エレクトロニクス及び情報工学の分野で、人間と機械の調和を促進するための研究活動に助成します。 上記の範囲で、科学技術を人間にとって最適なものとするための、若手研究者による萌芽的な基礎研究活動も歓迎します。 ●助成金額、件数等 ・研究助成(A)：1件 2,500千円以下(※)、30件程度、研究期間 2018年4月1日 ～原則1年 ・研究助成(B)：1件 5,000千円以下(※) 、2件程度、研究期間 2018年4月1日 ～2年 ・研究助成(C)：1件 500千円(※)／年（1年、2年または3年）、10件程度、研究期間 2018年4月1日 ～1年、2年または3年（博士課程後期（または相当）への在学期間に限定） ※この金額は直接経費（研究費）の上限です。 付随する間接経費（管理費）もこれに加算して申請できますが、申請額（直接経費＋間接経費）の上限は研究助成(A)3,125千円、(B)6,250千円、(C)625千円とします。 申請額に対して間接経費が20%を超える場合は、申請額上限の範囲内で直接経費を調整して下さい。 ●応募資格 ・研究助成(A)と(B)には、日本国内に居住する研究者であれば応募できます。 ・研究助成(C)には、日本国内に居住する博士課程後期（または相当）の学生のみ応募できます。 ・研究助成(A)(B)(C)とも、同一または重複内容で、現在公的機関からの補助金や他の財団等から既に助成を受けているか、または受ける予定になっている場合は、ご遠慮下さい。 ●応募方法 (公財)立石科学技術振興財団のHPをご確認の上、必要書類(HPからダウンロード)の作成、送付をお願い致します。 応募にあたっては、所属機関長の承諾(公印の押印)が必要となります。 所属機関長とは、大学職員の場合は、学部長または学科長、大学の学生の場合は指導教官、その他の組織の職員の場合は、組織長（管理職）を想定しています。 公印押印等、詳細手続きについては、事前に各所属事務室へお問い合わせください。 |