(公財)立石科学技術振興財団 2019年度 前期国際交流助成公募のご案内
2018年08月20日掲載
締切間近
情報
項目 | 内容 |
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番号 | 2018081502 |
団体名 | 公益財団法人立石科学技術振興財団 |
種別 | 研究助成 |
分類 | 理系 |
応募方法 | 直接応募 |
募集期間 | 2018年10月01日~2018年12月20日 |
URL | http://www.tateisi-f.org/ |
備考 | 詳細はHPをご確認ください。
●助成対象 エレクトロニクス及び情報工学の分野で、国際会議での論文発表及び短期在外研究のための海外派遣に対し、応募者本人に助成します。 若手研究者による萌芽的な基礎研究活動の一環としての国際交流を歓迎します。ことに、渡航経験の少ない若手からの応募を期待します。 ●応募資格 日本国に居住する40歳以下(申請日の満年齢)の研究者とし、国籍・所属機関を問いません。研究者とは、助成対象期間に研究機関に所属し研究に従事する者、もしくは博士後期課程(または相当)に在学する者。 ●助成金額 国際会議発表 1件400千円(注)以下 短期在外研究 1件700千円(注)以下 合計10件程度 ●応募方法 (公財)立石科学技術振興財団のHPをご確認の上、必要書類(HPからダウンロード)の作成、送付をお願い致します。 |